- Orbitalschweißen
- Rohrleitungen aus SS 316 L, elektropoliert u. passiviert
- Mass-Flow-Controller für alle Gase
- Leckraten 1 x 10-9 sccm/sec.
- Faltenbalgventile (pneumatisch)
- μm Filter (point of use)
Unsere Qualitätskontrolle unterzieht jedes Gassystem vor dem Einbau in die Anlage einen vollständigen Funktions- und Lecktest.
Die INOTHERM-Anlage kann für folgende Standardprozesse geliefert werden:
- LPCVD-Polysilicium (Ramped)
- LPCVD-Polysilicium (Flat)
- LPCVD-Siliciumnitrid
- LPCVD-Hochtemperaturoxid
- Temperung mit N2
- Temperung mit H2 bzw. (Formiergas)
- Trockenoxidation mit O2 und HCl
- Trockenoxidation mit O2 und TCA - Feuchtoxidation mit H2/O2 und HCl (external torch)
- Feuchtoxidation mit H2/O2 und TCA (external torch)
- Phosphordiffusion mit POCl3
- Bordiffusion mit BBr3